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微(光)电子

微结构电镀沉积仿真

发布时间:2015-08-17    作者:    来源:     浏览次数:


实验概况:微尺寸的铜结构是微型机械设备和微细零件重要的一环,局部电化学沉积铜微柱的主要方式之一,因具有独特的优势和光明的前景,正在受到越来越多人的关注和研究。由于结构的特征尺寸很小,达到了微米级,而且影响局部电化学沉积制造微铜柱因素颇多。为了解局部电化学沉积铜微柱的复杂生长机理,需要对其整个沉积过程进行仿真模拟。本仿真实验采用COMSOL软件2D平面建模虚拟仿真技术,通过学生选择相应的物理场,并进行参数设置,最后进行功能模拟,从而实现对局部电化学沉积铜微柱的模拟实训,为学生掌握微结构电镀沉积相关知识提供直观的帮助和认识。

实验目标:了解局部电化学沉积铜微柱的过程,掌握局部电化学沉积工作原理和概念。

实验功能:通过虚拟仿真技术进行局部电化学沉积铜微柱过程演示和实训,并支持学生自主选择具体的参数设置项目和最终输出的仿真结果类型,从而加深对局部电化学沉积技术的理解。

教学效果:了解局部电化学沉积铜微柱的过程,掌握局部电化学沉积工作原理和概念。




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